延边大学学报(自然科学版)

2020, v.46;No.138(02) 122-128

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金属Y掺杂Mo-N薄膜的机械性能和摩擦学性质研究
Mechanical and tribological properties of Y-doped Mo-N films

栾书多;张佳鑫;顾广瑞;

摘要(Abstract):

利用射频磁控和直流磁控共溅射的方法制备了金属Y掺杂的Mo-N薄膜.对制备的薄膜样品进行元素组成、微观结构、表面形貌、摩擦学性质分析显示:薄膜的择优取向由未掺杂时的γ-Mo_2N (111)改变为Y掺杂后的γ-Mo_2N (200).与未掺杂的Mo-N薄膜相比较,所制备的MoYN薄膜的硬度明显降低,但耐磨性和平均摩擦系数均有所改善.其中Y掺杂含量为9.44at%时,薄膜的耐磨性为最佳,平均摩擦系数为最小(0.283),硬度为(24.13±3.15) GPa.

关键词(KeyWords): 磁控共溅射;Mo-N薄膜;摩擦学性能

Abstract:

Keywords:

基金项目(Foundation): 国家自然科学基金资助项目(51272224)

作者(Author): 栾书多;张佳鑫;顾广瑞;

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DOI: 10.16379/j.cnki.issn.1004-4353.2020.02.005

参考文献(References):

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